In einer Pressemitteilung, die das 3D-grenzenlos Magazin erreicht hat, gibt das Auf Mikrofabrikation spezialisierte Unternehmen Nanoscribe den Launch seines neuen Quantum X shape Mikro-3D-Druckers. Das 3D-Druck-System arbeitet hochpräzise und eignet sich für Rapid Prototyping und industrielles Batch Processing im Wafermaßstab. So genannte Wafer (dt. „dünne Brotscheiben“) können bis zu 6 Zoll bedruckt werden, was besonders für die effiziente und schnelle Fertigung im Wafermaßstab in Forschungslaboren und in Bereichen wie Life Sciences, Materialentwicklung, Mikrofluidik, Mikrooptik, Mikromechanik und für mikroelektromechanische Systeme (MEMS) nützlich ist.

Details zum Quantum X shape

Im Jahr 2019 brachte Nanoscribe mit dem Quantum X das weltweit erste Zwei-Photonen-Graustufenlithografie-System (2GL®) auf den Markt. Der neue Quantum X shape bringt optimierte 3D-Mikrofabrikationsmöglichkeiten und stimmt Präzision und Geschwindigkeit beim 3D-Druck von Nano- und Mikrostrukturen optimal aufeinander ab. Die industrieerprobte Quantum X Plattform ermöglicht hochmoderne Mikrofabrikationsprozesse für die industrielle Serienfertigung im Wafermaßstab.

Dr. Michael Thiel, CSO und Mitgründer von Nanoscribe, sagt:

„Mit dem Quantum X shape setzt Nanoscribe neue Maßstäbe in der hochpräzisen Mikrofabrikation für wissenschaftliche und industrielle Zwecke gleichermaßen. Während der Quantum X durch die Zwei-Photonen Graustufenlithografie bereits die Herstellung flacher und sehr glatter Mikrooptiken vorantreibt, ist zu erwarten, dass der neue Quantum X shape den hochpräzisen 3D-Druck auf Basis der Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) zu einer effizienten und zuverlässigen Technologie für das Rapid Prototyping und die Serienfertigung in Forschungslaboren und der Industrie macht.”

Die additive Mikrofabrikationstechnologie Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) vereint hohe Präzision mit maximaler Designfreiheit. Die Mikrofabrikation von Objekten in 2.5D und 3D wird mit dem System zum Direktlaserschreiben mit Submikrometerpräzision und auf Flächen von bis zu 25 cm² möglich.

Quantum X shape eignet sich für 3D-Objekte mit:

  • einer Kontrolle der Strukturgrößen bis zu 100 Nanometern in allen räumlichen Dimensionen für den Druck im Nano- und Mikrobereich.
  • einer Objektgröße von bis zu 50 Millimetern beim mesoskaligen Druck.

Weitere Details

3D-Drucker Nanoscribe Quantum X shape
Der 3D-Drucker Quantum X shape (im Bild) bietet Designfreiheit für nahezu beliebige 2,5D- oder 3D-Strukturen. Mit dem System können Strukturen von höchster Qualität und Präzision bei maximalem Durchsatz realisiert werden (Bild © Nanoscribe).

Ein industriegerechter gepulster Femtosekunden-Laser und eine hochmoderne Laserfokustrajektorien-Steuerungseinheit sind Teil des Mikrofabrikationssystems. Die Steuerungseinheit dient der Be- und Entschleunigung der Galvo-Spiegeleinheiten auf die passende Scangeschwindigkeit und die dynamische Anpassung der Laserleistung bei Modulationsraten von 1 MHz.

Der automatische Interfacefinder des Quantum X shape erkennt Substratoberflächen mit einer Genauigkeit von bis zu 30 Nanometern. In Verbindung mit Selbstkalibrierungsroutinen führt das laut Nanoscribe zu einem maximal zuverlässigen und präzisen 3D-Druck. Der 3D-Drucker eignet sich mit seiner automatischen Dispensing-Funktion der Fotolacke für das industrielle Batch Processing mit Standardwafern bis zu 6 Zoll. Druckaufträge können mit der Remote-Access-Software nanoConnectX vom Büro oder Homeoffice gestartet und gesteuert sowie überwacht werden. Über alle weiteren Neuheiten auf dem Markt der 3D-Drucker berichten wir auch zukünftig täglich im 3D-grenzenlos Magazin (Newsletter abonnieren).

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