Heidelberg Instruments stellt Ende Januar in San Francisco die neue Zwei-Photonen-Polymerisations-Plattform „MPO 100“ für 3D-Lithografie und den Mikro-3D-Druck vor. Mit dieser können Anwender Bauteilhöhen von über 1 cm erzielen, sowie Oberflächen mit Rauheiten in der Größenordnung von 10 nm und mehr herstellen. Wir stellen das MPO 100 Multi-User-Tool von Heidelberg Instruments einmal genauer vor.
Das Unternehmen Heidelberg Instruments, die Muttergesellschaft von Multiphoton Optics, wird auf der kommenden SPIE Photonics West Messe in San Francisco vom 25. – 27. Januar die neue Zwei-Photonen-Polymerisation-Plattform MPO 100 vorstellen. Das berichtet das Unternehmen dem 3D-grenzenlos Magazin in einer Pressemitteilung.
Mit der Plattform sind Anwender in der Lage, Bauteilhöhen von über 1 cm zu erzielen, Oberflächen mit Rauheiten in der Größenordnung von 10 nm, Strukturgrößen kleiner als 100 nm und Schreibgeschwindigkeiten schneller als 1000 mm/s. Das Multi-User-Tool kombiniert laut dem Hersteller Anforderungen der 3D-Lithografie mit Auflösungen im 100 nm Bereich und des 3D-Mikrodrucks mit Druckhöhen von über einem Zentimeter in einem Gerät.
Dr. Benedikt Stender von der Multiphoton Optics GmbH sagt in der Pressemitteilung:
„Die MPO 100 stellt ein einzigartiges Werkzeug für die Mikrofabrikation dar und erzielt mit 100 Nanometern die höchste Auflösung unter den additiven Fertigungsverfahren. Die 1-10-100-1000 Fähigkeit der MPO 100 wird die Anwender an Universitäten, F&E-Einrichtungen sowie aus der Industrie begeistern und deutliche Vorteile für Neuentwicklungen in Bereichen wie der Mikrooptik, Mikrofluidik und Biomedizin bieten.“
Details zur MPO 100-Plattform
Die MPO 100 arbeitet mit einer Laserwellenlänge im grünen Spektralbereich, der sich für die 3D-Strukturierung gängiger Fotolacke eignet. Die Plattform MPO 100 wurde besonders für die Hybridpolymere (ORMOCER®s) optimiert. Die Algorithmen zur Optimierung der Strukturqualität und das synchronisierte Scansystem ermöglichen eine stitching-freie Fertigung. Die Anlage ist mit einer Flowbox ausgestattet, die eine Temperaturstabilität von bis zu 0,1 °C garantiert. So liefert sie die notwendige Stabilität für großflächige Belichtungen. Dank anwendungsspezifischer Schreibmodi lassen sich kundenspezifische Druckanforderungen umsetzen.
Steffen Diez, COO von Heidelberg Instruments, sagte:
„Mit der MPO 100 haben wir die Stärken von beiden Unternehmen in einem System vereint: Multiphoton Optics‘ ausgereifte Belichtungseinheit zur Zwei-Photonen Polymerisation und Heidelberg Instruments‘ industrielle Plattform, die die erforderliche Stabilität garantiert und die notwendigen Industrie-Normen erfüllt. Die Fähigkeiten der MPO 100 finden bereits jetzt einen hohen Anklang bei unseren Kunden, die vom weltweiten Support durch unsere Serviceorganisation sowie einer ISO zertifizierten Produktion profitieren.“