Der deutsche Hersteller von Mikrofabrikations-3D-Druckern Nanoscribe wird ab dem 1. August 2019 einen neuen Standort in den USA beziehen. Als Stadt wurde Boston ausgewählt. Damit möchte das Unternehmen auch in Amerika Fuß fassen und seine internationalen Geschäfte vorantreiben.

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Wie der 3D-Drucker-Hersteller Nanoscribe dem 3D-grenzenlos Magazin in einer Pressemitteilung erklärt, wird das Unternehmen am 1. August 2019 einen neuen Standort im Großraum Boston in den USA beziehen. Damit soll nach der Gründung einer Tochtergesellschaft in China die Internationalisierungsstrategie auch in den USA vorangebracht werden.

Viele Elite-Universitäten wie die Harvard University und die Boston University in Massachusetts setzen bereits auf die Mikrofabrikationsdrucker von Nanoscribe. Nun möchte das Unternehmen mehr an industriellen Kunden gewinnen., heißt es in der Pressemitteilung Die USA ist für Geschäftsführer Martin Hermatschweiler ein starker Absatzmarkt.

Mitarbeiter Nanoscribe Gruppenfoto
Nanoscribe wird am 1. August 2019 seinen neuen Standort im Großraum Boston beziehen (Bild © Nanoscribe).

Weltmarkt- und Technologieführer Nanoscribe

Nanoscribe verfügt über mehr als 70 Mitarbeiter und ist Weltmarkt- und Technologieführer im Bereich der 3D-Mikrofabrikation. Künftig will das Unternehmen auch auf die industrielle Fertigung setzen. Mit dem kürzlich vorgestellten maskenlosen Quantum X Lithografiesystem ist ein erster Schritt damit erfolgt. Wir haben den Quantum X 3D-Drucker hier vorgestellt.

Der Quantum X von Nanoscribe
Das maskenlose Lithografiesystem eignet sich für die 2 D- und 2,5 D-Mikrofabrikation (Bild © Nanoscribe).

Das additive Fertigungsverfahren 2GL kombiniert die Graustufen-Lithografie mit der Präzision und Flexibilität der von Nanoscribe kontinuierlich weiterentwickelten Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP). Für Hermatschweiler ist das Quantum X ein äußerst leistungsfähiges und sehr präzises Fertigungsverfahren, das vorhandene Beschränkungen in Designfreiheit, Präzision und Durchsatz überwindet.

Design-Iterationszyklen werden für die Fertigung funktionaler Prototypen erheblich verkürzt. Der gesamte Herstellungsprozess gestaltet sich zeit- und kosteneffektiv, was für refraktive und diffraktive mikrooptische Komponenten von Vorteil ist.

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